お問い合わせ
Environment

スパッタ用電源

真空機器用高圧電源の豊富な実績を基にスパッタ用電源を製品化しました。
最近では、半導体、DVD、液晶テレビ、太陽電池、ハードディスク、自動車用ヘッドライト反射板、光学部品など様々な製造分野で薄膜が使用され、その成膜には真空中で成膜するスパッタ法が多く利用されています。

〈スパッタ法〉
成膜装置内に基板とターゲット(薄膜したい物質)を対向させて、真空内に希ガス(普通はアルゴンを用いる)を入れ高電圧放電させてイオンを発生させます。 プラスイオンはマイナス電位を付加したターゲットに加速しながら衝突し、その衝撃でターゲットの成膜物質をはじき飛ばします。はじき出された成膜物質が基板に推積し薄膜が形成されます。

スパッタ用電源の特徴としては、高信頼性はもとより、アーク(異常放電)発生時の高速制御応答、安定した出力特性を有しています。また、徹底した熱設計により小型化を実現しました。

スパッタ用電源