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Mechatronics

真空ソルダリングシステム
(研究開発用)

Model:Mini

研究用途向けの小型装置で、ギ酸還元を評価するために最適な
一台です。また、オプションを追加することにより用途の幅が
広がります。

特長

1. ギ酸還元
フラックスレス・リフローでは水素還元が一般的でしたが、ギ酸還元はより低い
温度から効果が認められるため、酸化膜の除去とはんだの濡れ性確保に有利な
プロセスです。

2. IRヒータ
一般的なホットプレートはプレート自体の熱容量が大きいことや、真空中での
ワーク間の熱抵抗が大きいことから、高速昇温に適していません。
当社システムはIRヒータによる直接加熱を用いており、高速昇温が実現できます。

用途

パワーモジュール等のデバイス

資料

詳細な仕様に関しては以下の資料をご確認ください。

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