ギ酸還元真空リフロー炉／マルチモジュールタイプ

特徴

1. ギ酸の直接気化
   • 弊社独自のガスジェネレーターを搭載。これまでにない瞬間的な気化を実現します
2. 高速な加熱冷却機構
   • IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を組み合わせた弊社独自の加熱冷却機構を搭載。
     加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献します
3. 安全なギ酸供給・排出
   • 専用タンクへのギ酸の移し変えが不要。お客様がご準備した瓶やタンクをそのままご使用いただけます
   • 弊社独自の分解処理ユニットを搭載。排気中のギ酸を完全に無害化します

仕様

以下の資料をご確認ください。

用途

• パワーモジュール等のデバイス
• ウエハバンプ（バンプ形成）
• LED
• FCB

サンプル試作・受託加工

弊社本社デモルームに備え付けのリフロー実験機でサンプル作製が可能です。
また、研究試作レベルから少量多品種製造等、受託加工のニーズにもお応えします。
まずは気軽にお問合せください。