Model:MP2
加熱と冷却を独立させた2チャンバ仕様の量産設備です。
処理スペース:W380 x D310 x H100mmと大型ワークまで搭載可能です。
1. ギ酸還元
フラックスレス・リフローでは水素還元が一般的でしたが、ギ酸還元はより低い
温度から効果が認められるため、酸化膜の除去とはんだの濡れ性確保に有利な
プロセスです。
2. IRヒータ
一般的なホットプレートはプレート自体の熱容量が大きいことや、真空中での
ワーク間の熱抵抗が大きいことから、高速昇温に適していません。
当社システムはIRヒータによる直接加熱を用いており、高速昇温が実現できます。
パワーモジュール等のデバイス
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